Angew:表面多组分集成以精确控制富锂锰基层状氧化物初始库仑效率
发布时间:2020-09-03

【研究背景】

富锂锰基层状氧化物(LLO)由于其超过250 mAh g-1的高容量,有希望作为正极材料,在电动汽车中大规模应用。LLO的超高容量来自多电子氧化还原反应(包括阳离子和阴离子氧化还原过程)。然而,阴离子氧化还原过程易导致不可逆的氧气析出,特别是在表面区域,导致初始库仑效率(ICE)降低,阻碍了LLO的应用。迄今为止,大多数LLO正极的ICE通常低于85%,远低于实际应用指标(>90%)。改善LLO正极的ICE(达到90%甚至更高)以满足商业化的需求仍然是一个严峻的挑战。改善ICE的关键是通过减少表面不稳定氧来抑制不可逆的氧气析出,解决此问题的有效方法之一是通过表面改性处理,例如表面氧空位,表面尖晶石包覆/集成和表面阴离子掺杂。尽管以上三种策略可以抑制氧气析出,但它们在改善ICE方面的效果十分有限。这是因为太多的氧空位会导致结构崩塌,而太多的尖晶石相或阴离子掺杂会降低LLO正极的容量。集成这三种策略才是有效提高LLO正极的ICE,甚至接近100%的办法。



 

【工作简介】

近日,广东工业大学的林展教授等人报导了一种NH4F辅助的表面多组分集成技术,可以精确地控制ICE。通过这种技术,氧空位、尖晶石层的相干结构和F掺杂被巧妙地集成在经过处理的LLOs微球表面上。通过表面集成结构对活性氧的去除量进行调节,使LLO正极的ICE可以从起始值调整到100%。X射线吸收光谱,XRD精修和扫描透射电子显微镜结果表明,去除的不稳定氧主要来自Li2MnO3结构。因此,多组分集成结构大大提高了LLO正极的表面稳定性。相关研究成果以“Accurate control of initial Coulombic efficiency for Li-rich Mn-based layered oxides by surface multicomponent integration”为题发表在国际知名期刊Angew. Chem. Int. Ed.上。



【内容详情】

如图1a所示,所有样品的结构均通过XRD进行了研究:经NH4F处理的样品的(101)和(104)峰移至低衍射角且变宽,表明形成尖晶石相。热处理后,LF-600和LF-700样品的XRD图谱中在36.4°出现一个清晰的峰,该峰对应尖晶石结构(空间群:Fd-3m)的特征衍射峰(311)。这些结果证明了NH4F处理诱导了尖晶石结构的形成。此外,XRD精修图谱表明尖晶石结构主要由单斜晶Li2MnO3相转变而成。      


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图 1、LF-10的(a,b)XRD图,(c-e)原位变温XRD图,(f-k)PL,LF-10,LF-350,LF-400,LF -500,LF-600的峰扩散拉曼光谱。


图1c的原位变温XRD测试直观展现了中LF-10样品的结构演变过程。随着处理温度的升高,层状结构的(003)L,(101)L,(104)L和(105)L衍射峰逐渐移向低衍射角(图1d,e),然后样品冷却至室温时,返回其原始位置。因此,NH4F处理引发尖晶石结构的形成,且热处理提高了尖晶石结构的结晶度和含量。在图1(g-k)的拟合拉曼光谱中,660cm-1处的峰对应于尖晶石结构中MnO6八面体Mn-O振动的A1g状态。拟合结果表明尖晶石结构主要来自单斜Li2MnO3相,这与XRD精修结果一致。因此,去除的不稳定氧应该是在Li-O-Li键中具有未杂化电子的氧


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图 2、PL,LF-10X,LF-10,LF-350和LF-600样品的(a)Li 1s,(b)F 1s,(c)Mn 3s,(d)O 1s XPS光谱。


对于Li 1s的XPS光谱(图2a),LF-350和LF-600样品中54.1eV峰的红移和56.4 eV峰的消失表明晶格中锂的化学环境稍有变化。此外,在Ar离子溅射之后,仍然清楚地观察到LF-600-5nm和LF-600-10nm的M-F信号。这表明F离子已经掺杂到晶格中,有助于稳定表面层状尖晶石共形结构,减少表面不稳定氧并进一步减轻不可逆的氧气释放


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图 3、(a)Mn K边界的归一化X射线吸收近边缘结构(XANES)光谱,以及PL,LF-10,LF-350和LF-600(b-d)在TEY模式下Mn L边界,Ni L边界和O K边界的归一化软XAS光谱。

 

利用X射线吸收光谱(XAS)来说明过渡金属(TM)离子的局部环境和化合价的变化,如图3a所示。在Mn K边界X射线吸收近边界结构(XANES)光谱中,与PL样品相比,LF-10样品的吸收边界转移到低能量。这表明在NH4F处理后,LF-10样品中的部分本体Mn4+离子减少至+3价。热处理后,LF-350和LF-600样品的吸收边界不能完全恢复到PL样品的吸收边界,而它们的Mn3+离子几乎与PL样品一样多。这些证明了表面Mn离子的价态在热处理过程中基本恢复到原始值,这可能与表面F掺杂有关。图3c显示了软XAS NiL边界和Ni K边界XANES光谱,在所有处理过的样品中,Mn K边界和Ni K 边界的白线强度都低于PL样品。这意味着由于氧空位的形成和表面F掺杂而导致处理后样品的结构变形


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图 4、LF-600样品的形貌和结构表征。(a)SEM图像,(b)TEM图像,(c,d)HRTEM图像和(e,f)HADDF-STEM图像。


图4a显示了经过热处理的样品的SEM图像。与PL样品相比,这些热处理样品的微球没有明显变化。这表明热处理后沉积物已经分解。如图4c,d所示,在HRTEM图像中发现了两组清晰的晶格条纹,表明层状结构和尖晶石相共存 这两个相在单颗粒中是共形的,而不具有晶界或相界。沿着层状结构的[010]轴,使用高角度环形暗场扫描透射电子显微镜(HAADF-STEM)在原子尺度上进一步探究了层状相和尖晶石相的共存模式。图4e显示了LF-600颗粒的HAADF-STEM图像,其中清晰地观察到Li和TM平面在堆积区域中沿[003]方向的交替堆积。由于NH4F分解产物的诱导,一些不稳定的晶格氧原子被释放以形成氧空位,并且TM原子(特别是Ni)取代Li层的一些Li位。


在热处理过程中,F原子取代了尖晶石相和层状结构的一些氧空位。它进一步增强了表面结构的稳定性,并阻碍了LF-600样品中晶格氧的释放。因此,形态学和结构分析证实,NH4F处理技术可通过结合表面氧空位,F掺杂和尖晶石层状共形结构,大大降低表面不稳定的晶格氧,并提高表面稳定性


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图 5、所有制备样品的电化学性能:(a,b)PL,LF-5,LF-10,LF-15,LF-20和(e,f)LF-400,LF-500,LF-600,LF-700样品在0.5C时的初始充电/放电曲线和循环性能。(c)PL,(d)LF-10和(h)LF-600样品的最初三个循环的CV曲线。(g)LF-600样品的原位DEMS结果。(i)LF-600样品在1 C下在2.0〜5.0 V的电压范围内的循环稳定性。


图5比较了所有样品的电化学性能。显然,所有初始充电曲线均显示电压斜坡低于4.5 V,并且平台超过4.5V。NH4F处理后,平台逐渐缩短,而当NH4F的含量超过10%时,斜破容量开始保持稳定,然后随着电压的升高而下降。这表明氧空位和尖晶石相来自Li2TMO3组分,并且过多的NH4F可能腐蚀样品。进一步观察发现,在处理过的样品的初始放电曲线中,在2.7 V附近出现了一个小的平台,这与Li嵌入尖晶石相有关。在NH4F处理过的样品的循环伏安(CV)曲线中,容易在2.7-3.0 V处观察到相应的氧化还原峰对,而PL样品的CV曲线未找到峰对(图5c)。这证明了NH4F的处理确实可以诱导尖晶石相的形成



【结论】

使用NH4F和随后的热处理过程能线性控制LLO的ICE,以调节表面不稳定氧的去除量,从而将氧空位,尖晶石相干结构和F掺杂巧妙地集成到LLO微球的表面。表面氧空位的产生主要归因于NH4F处理,随后的热处理过程实现了表面F掺杂。类尖晶石相主要来自Li2TMO3成分,热处理可以诱导类尖晶石相转变为具有高结晶度的尖晶石结构。另外,具有高结晶度的表面F掺杂和尖晶石层的共形结构可以显著提高表面结构的稳定性,有助于改善循环性能。

 

Dong Luo, Xiaokai Ding, Jianming Fan, Zuhao Zhang, Peizhi Liu, Xiaohua Yang, Junjie Guo, Shuhui Sun, and Zhan Lin. Accurate Control of Initial Coulombic Efficiency for Li-rich Mn-based Layered Oxides by Surface Multicomponent Integration. Angew. Chem. Int. Ed. 2020, DOI:10.1002/anie.202010531



来源:能源学人



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